北京时间6月9日中午，美国顶尖芯片科学家公开表示，HW将迎来重大突破，有望在不依赖 ASML 光刻机的前提下，实现 1.4nm 级别的先进制程突破。

这一论断打破了市场对先进制程 “必须依赖 EUV 光刻机” 的固有认知，也意味着国产半导体设备的自主化进程，正从单一设备的追赶，向核心环节的 “换道超车” 演进。HW改用时间缩放、架构堆叠、延迟优化，用现有成熟 DUV 工艺（193nm 浸润）实现等效 1.4nm 芯片性能密度

结论：对国产光刻机整体：中长期实质利好

  • 需求重心转向 DUV 成熟机型 过去行业执念 “冲 EUV”，现在多一条高性价比先进芯片路线，193nm 浸润 DUV 设备价值大幅提升。 国产光刻机龙头上海微电子主攻赛道正是 i 线、KrF、ArF 浸润 DUV，不用死磕难度极高的 EUV，商业化空间直接打开，国内晶圆厂扩产 DUV 意愿变强。


  • 供应链自主逻辑强化 既然先进芯片不靠 EUV，国内产线扩产约束变少，国产 DUV 光刻机、配套零部件的导入速度会加快，设备验证、订单放量节奏提速。

  • 建议重点关注国产光刻机相关产业链标的：

    • 【688502茂莱光学】国产光刻机光学系统的 “独苗” 供应商，国内唯一实现光刻机曝光物镜组商业化量产的企业，也是上海微电子等国产光刻机厂商的核心合作伙伴

  • 茂莱核心产品就是DUV/ArF/i 线光刻机投影物镜、精密光学镜片，是上海微电子国产光刻机核心光学供应商，国内唯一量产光刻物镜镜片组的民企龙头。

  • 传导逻辑： 韬定律拉高 DUV 光刻机长期景气度→国产 DUV 设备订单增多→上海微电子等设备厂扩产备货→向上采购茂莱的光刻光学组件； 同时海外成熟 DUV 产线价值重估，茂莱本身也供货海外半导体检测、光学设备厂商，双向受益。


    • 业绩验证：半导体业务爆发式增长，订单高景气度持续

    2026 年一季度，公司在手订单实现大幅增长，验证了行业需求的强劲复苏：


    • 随着国产光刻机的放量推进，以及先进制程技术路径的突破，公司的光学系统产品有望从成熟制程向更先进制程延伸，打开长期成长空间。

    简短总结：

  • 国产光刻机：利好，DUV 赛道确定性显著提升，EUV 攻坚压力阶段性缓解；

  • 茂莱光学：直接利好主业光刻光学零部件，订单与成长空间拓宽：


    • 1）稀缺性壁垒：国内唯一商业化量产光刻机曝光物镜组的企业，行业竞争格局清晰，技术壁垒高。

    2）业绩确定性强：在手订单充足，半导体业务占比持续提升，受益于国产光刻机放量。

    3）长期成长空间：先进制程技术路径突破，为公司打开长期成长天花板，估值有望重构。


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