北京时间6月9日中午，美国顶尖芯片科学家公开表示，HW将迎来重大突破，有望在不依赖 ASML 光刻机的前提下，实现 1.4nm 级别的先进制程突破。这一论断打破了市场对先进制程 “必须依赖 EUV 光刻机” 的固有认知，也意味着国产半导体设备的自主化进程，正从单一设备的追赶，向核心环节的 “换道超车” 演进。HW改用时间缩放、架构堆叠、延迟优化，用现有...

【题材前瞻】桌面级EUV突破引发微纳制造革命，关注苏大维格及光刻产业链机会 #小作文 事件：6月3日，据媒体报道，美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级EUV（极紫外）光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的纳米结构加工压缩至数分钟。研究成果发表于《Nano Letters》，未来有望应用于芯片制造、量子计算、纳米药物及新...

【长江电子杨洋团队】聚焦高景气主线，珍惜半导体设备&材料底部机遇！美以伊局势影响，避险情绪提升，半导体板块出现回调，并非基本面因素。全年维度，两存订单中性预期10-12万片/月，同比提升，且国产化率要求更高，先进制程预期差异较大；结合AI需求和国产替代空间，同时参考十五五规划，明后年预期有更大体量订单落地，26年并非周期高点，建议把握半导体设备...