北京时间6月9日中午，美国顶尖芯片科学家公开表示，HW将迎来重大突破，有望在不依赖 ASML 光刻机的前提下，实现 1.4nm 级别的先进制程突破。这一论断打破了市场对先进制程 “必须依赖 EUV 光刻机” 的固有认知，也意味着国产半导体设备的自主化进程，正从单一设备的追赶，向核心环节的 “换道超车” 演进。HW改用时间缩放、架构堆叠、延迟优化，用现有...

【题材前瞻】桌面级EUV突破引发微纳制造革命，关注苏大维格及光刻产业链机会 #小作文 事件：6月3日，据媒体报道，美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级EUV（极紫外）光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的纳米结构加工压缩至数分钟。研究成果发表于《Nano Letters》，未来有望应用于芯片制造、量子计算、纳米药物及新...

盘中段子汇总午晚间研报更新在这个@飞火挖掘社长江存储启动IPO辅导，两存相继冲刺资本市场（兆易创新、万润科技、联云科技、三孚股份、国风新材、诚邦股份、合百集团、市北高新、大众交通等）三星与工会将于下午四点（北京时间三点）恢复谈判宜春就进一步加强锂资源矿山监督管理征求意见公安部：对上市公司财务造假类犯罪“零容忍”机构：2025至2027年全球晶圆厂设备支...

不想看文字的老师直接看图省事~~国产光刻机这条线，市场最先想到的一般是上海微电子、光刻胶、掩膜版、涂胶显影、光学镜头和精密零部件。但如果把产业链拆得更细一点，会发现光刻机真正难的不是某一个零件，而是一整套光、机、电、软、材料、控制和工艺验证的系统工程。在这套系统里，有一个容易被忽略的方向：光学检测和显微成像。这也是麦克奥迪的看点。一、麦克奥迪不是光刻机...