聚和材料:半导体先进制程稀缺材料,看好10倍增长空间
【天风电新】聚和材料再推荐:强调Blank Mask的稀缺性和产业链延申逻辑-0506
此前我们认为聚和材料会受益于国产算力爆发,先进制程和先进封装对于Blank Mask的用量是成熟制程的4倍,价格翻倍以上增长,市场空间会是10倍增长。先进制程、先进封装本质上都是受益于国产算力拉动。
而在国产算力标的中,聚和不仅是Blank Mask#从0-1国产替代,同时兼具#产业链延申能力,是最稀缺的半导体材料标的。
1)国产替代:国内掩模版份额主要集中在三家厂商,聚和已经拿到两家客户Vendor Code,另外一家客户正在走流程,并且已经实现送样。通过三大掩模版客户,可供应国内头部五家晶圆厂。未来不仅是成熟制程国产替代,更可#受益于先进制程10倍价值量增长。
2)产业链延申:Blank Mask上游的高纯石英基板、光刻胶均需依赖进口,Blank Mask的国产化同样离不开配套材料的国产化。聚和#已经明确未来要做ArF光刻胶,结合半导体材料平台公司的战略,具备产业链上下游延申逻辑。
🌟因此,我们认为聚和材料在国产算力材料公司中,具有非常强稀缺性。高银价背景下,公司业绩有望持续超预期。公司主业即值200亿,Blank Mask中长期看300亿市值。即使不考虑太空光伏、光刻胶,也具备翻倍空间,继续重点推荐。
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